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DGAP-News: AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf den Markt (deutsch)

Veröffentlicht am 08.11.2011, 06:58
Aktualisiert 08.11.2011, 07:00
AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf den Markt

DGAP-News: AIXTRON SE / Schlagwort(e): Produkteinführung

AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf

den Markt

08.11.2011 / 06:58

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AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf den

Markt

Aachen, 8. November 2011 - Nach der erfolgreichen Produkteinführung der

CRIUS(R) II-L gibt AIXTRON SE (FSE: AIX; NASDAQ: AIXG) den nächsten

Meilenstein bekannt: Mit einer Konfiguration von beispielsweise 19x4-Zoll

liefert die neue CRIUS(R) II-XL nicht nur die weltweit größte Kapazität,

sondern auch höchsten Durchsatz und maximale Produktivität. Damit sind

Hersteller in der Lage, bei effizientester Ausnutzung der Standfläche zu

niedrigsten Betriebskosten zu produzieren.

Die neue CRIUS(R) II-XL-Konfiguration basiert auf der gleichen Hardware wie

schon das Vorgängermodell CRIUS(R) II-L. 'Lediglich die Suszeptorplatte

muss ausgetauscht werden', so Dr. Johannes Lindner, Programm-Manager bei

AIXTRON für Close Coupled Showerhead(R) (CCS)-Technologie. 'Trotz größerer

Kapazität entstehen so praktisch keine zusätzlichen Kosten, da wir beim

Design der neuen Anlage höchstes Augenmerk darauf gelegt haben, dass der

Übergang von der CRIUS(R) II-L zur CRIUS(R) II-XL so einfach wie möglich

vollzogen werden kann. Auch die Prozesse müssen nur geringfügig angepasst

werden.'

Grundlage für das neue Anlagendesign war erneut eine detaillierte Analyse

des Marktes, bei der die LED-Herstellungskosten im Mittelpunkt standen.

'Die Hersteller sind gezwungen, immer kostengünstiger zu produzieren',

erklärt Dr. Rainer Beccard, Vice President Marketing bei AIXTRON. 'Mit den

Möglichkeiten der MOCVD-Technologie lässt sich diese Kostenreduktion

erreichen. Da die Reaktorkapazität den größten Einfluss auf die

Betriebskosten hat, haben wir uns für die 19x4-Zoll-Konfiguration

entschieden. Intensive Tests in unserem Labor haben gezeigt, dass die neue

Anlage neben ihrer Größe maximale Homogenität und hohe Erträge liefert. Die

CRIUS(R) II-XL ist für Wafergrößen von 2 bis 8 Zoll optimiert. Der Wechsel

auf eine andere Wafergröße erfolgt durch den einfachen Austausch des

Suszeptors - weitere Hardware- oder Prozessanpassungen sind auch hier nicht

erforderlich', so Dr. Beccard.

AIXTRON Showerhead-Technologie ist aufgrund ihrer ausgezeichneten

Prozessstabilität und Zuverlässigkeit eine anerkannte Größe im MOCVD-Markt

und wird nun durch das neue Modell ergänzt. Die CRIUS(R) II-XL ist

standardmäßig mit dem ARGUS In-situ-Messgerät und einem höhenverstellbaren

Suszeptor ausgestattet, der es dem Anwender ermöglicht, während des

Prozesses die optimale Reaktorgeometrie für jedes denkbare Prozess-Regime

auszuwählen.

MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische

Gasphasenabscheidung

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6; NASDAQ:

AIXG, ISIN US0096061041) sind im Internet unter http://www.aixtron.com

verfügbar.

Kontakt:

Investor Relations and Corporate Communications

AIXTRON SE, Kaiserstr. 98, 52134 Herzogenrath, Germany

Phone: +49 241 8909 444, Fax: +49 241 8909 445, invest@aixtron.com

www.aixtron.com

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